当前全球仅4家厂商，可能建树光刻机，别离是荷兰的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微电子。

　　从功夫水平来看，ASML尼康佳能上海微电子。如下图所示，ASML的光刻机或许抵达3nm的精度了，而尼康的紧张在28nm及以上，而佳能、上海微电子的在90nm以上。

　　再给大众一个数字，这是某机构统计的，2021年举世半导体前道光刻机的出卖情景，从这张表或许看出来，小米7nm的EUV光刻机，ASML统统包揽。

　　在45-7nm的光刻机上，仅有尼康、ASML也许推出，尼康也就是打酱油，仅贩卖4台，其余的81台全是ASML的。

　　直到180nm级其它KrF光刻机上，佳能才列入进来，而华夏厂商在前叙光刻机的出货量基础为0（也可能是没有统计到），但不否定，其份额是不妨渺视的。

　　临时硅基芯片被感触生长到极限了，而硅基芯片必要EUV光刻机，华夏根底上在EUV光刻机，不太可能追得上了，所以许多人大白，在权且的光刻机时期上，既然我这么保守，那么就应该换道超车了，在新的技能上，抢先来呗。

　　第一种是NIL技术，也就是纳米压印，将芯片的电叙板，像打印机类似，打印到硅片上，或许比EUV光刻机精度更高，功耗更低，成本更低。

　　姑且在这一种岁月上，佳能出现最突出，申请的专利也最多，而且与铠侠合营，依旧有成熟的产品了，全部人们没有厂商表示很超过。

　　第二种时期是电子束光刻机(EBL)，用高能电子束来替换极紫外线纳米，加工精度就比EUV又高了不少。

　　这种光阴，暂且是美国浮现最为越过，美国厂商Zyvex还搞了一台成熟的产品，而且缔造出了0.768nm的芯片，然而且则这种光刻机效用低，无法大畛域运用，但至少走在寰宇前线。

　　第三种功夫称之为“自组装（DSA）光刻时候”，运用新的化学质料，让电道图直接在硅片上天才，不必要光刻。

　　暂且在这沿途出现超越的，是欧洲、美国的研发机构，像比利时微电子主题、麻省理工学院，都建立了自组装产线进行咨议，专利也申请的最多。

　　实话实叙，且则中原的厂商，在这三种被众人感到大有谁日的光刻机技艺、专利上呈现都不太突出，因而谈是落后｜后进了也并可是份。

　　当然，任何时间没有成为真实的坐蓐力之前，都有恐怕是无努力，这三大时候也不破例，此刻被看好，另日也恐怕一事无成。

　　但大概在这些前沿功夫上发力，显示逾越，也是力量的一种展示，于是华夏厂商真的要加油，不论押注什么期间，都得速即研发了，否则落后｜后进又要挨打啊。