早在2021年北大国发院信誉校长林毅夫老师就瞻望，我国有望在2023年造出EUV光刻机，光刻机和芯片是美国抑遏中国发展的严沉伎俩，2020年荷兰光刻机威望阿麦斯曾表现中原预计在三年内就可能坐褥本身的光刻机，那么三年期也很速到了，他们光刻机的研发经过又怎么了？

　　EUV光刻机是世界顶级才能，配备零配件逾越10万个，沉量超过180吨，这些零配件由多个国家生产，仅安装调试就须要超越一年韶华，能够说是集多国科研实力技巧组装落成。现如今，你们面对美国对谁国芯片才力的封合压迫，假使你们们国也要在这个界限进行比拼，就必要另辟阶梯，采取厘革的技艺实行得救，2022年11月华为公司宣告了看待光刻机关连的技艺专利，由北京国望光学光刻编制批量分娩。

　　同时你的科研人员在接续的勤苦，当今所有人们国在光子芯片界限的搜索杀青突破，在技术上有着一概的赶过位子，与美国不相高低，未来大家恐怕可能经由光子芯片来冲突对光刻机的仰仗。

　　今年年头哈工大争执了EUV激光光源手艺，能够照料光刻机光源。此前他国就一经完成了物镜体系、双行状台本领的冲破，要是综关起来看全部人国坐褥DUV光刻机仍是大有守候。

　　中芯国际行使新才干能够出产10纳米DUV芯片，可以惩罚国内七成局限的芯片需求，工艺级别如果能突破到7纳米的话，就可能得志我们国九成芯片墟市份额。

　　科益虹源自立研发高能准分子激光器，弥补了全班人国在这一领域的空白，也是为高精度光刻机打点更好的光源题目，

　　华为申请的专利是提供一组反射镜，对紫外光的光后举行个体优化，解决了干预图样明后不平均的题目。

　　随着这一项项手艺的冲破，可能叙全班人在光刻机上的探索进贡一经是硕果累累，全部人们国可能称之为可能坐褥光刻机的国家。

　　而今来看光子芯片的运用界限要紧集关在通讯、医治、微波光子和雷达等操纵畛域，存在必定的规模性，估摸他们们国在2023年将建成光子芯片家当链，惧怕将会冲突其我们国家对所有人国芯片领域的畛域。